トップ > 研究開発

研究開発

次世代の技術開発をめざす「表面処理研究所」

技術提案型企業であり続けるために、最先端のめっき技術の研究と開発を可能にする「表面処理研究所」を3年の時間をかけて準備し、整備しました。

広さ580㎡を誇る研究設備
研究室

新しい表面処理研究所の土台となるビーカーワーク主体の研究室。

試作室

スケールアップした設備で研究から得た可能性を安定生産へと導く試作室。

表面改質室

めっきだけでなく、新しい皮膜や新しい工法など次世代の表面処理を模索する表面改質室。

環境試験室

社会に求められる技術にするために環境性能評価は重要な要素です。


開発技術
環境にやさしいめっき

環境有害物質を含まないめっき皮膜や、環境にやさしいめっき工程の技術開発。

スズ リフローめっき 独自開発

「鉛フリー」はんだめっきとして独自開発をした環境対応性の高いめっき技術。はんだ付け性とウィスカーの抑制に優れ、豊富な量産実績もあります。

特徴:
・ウィスカー抑制能力
・実装後の加熱変色を抑制
・良好なはんだ付け性
・センターキャリア品への加工も可能

モノクリスタルスズめっき 産・学・官 連携開発

ウィスカー対策の決定版とも言えるめっき技術。経済産業省より「サポートインダストリー」認定を受け技術開発。あらゆるめっき工法に対応可能です。

特徴:
・高いウィスカー抑制能力
・良好なはんだ付け性
・低挿入力(スズ リフローめっき比50%低減)

6価クロムフリー亜鉛めっき 独自開発

環境に配慮した3価クロム化成処理を他社に先駆けて導入し、15年以上の実績があります。ユニクロ、有色および黒色など、様々な外観に対応可能です。

特徴:
・高い環境対応性能
・殺菌性、耐食性に優れる
・豊富な加工実績
・豊富な外観対応


難めっき素材へのめっき

めっきが不可能、困難と言われる素材にめっきをするための技術開発。

マグネシウムへのめっき 産・学・官 連携開発

経済産業省より新連携事業として認定。軽量でリサイクルに適したマグネシウム素材の欠点を補う、高い「耐食性」の皮膜を持たせる技術開発に成功。

特徴:
・高耐食性
・環境にやさしいプロセス
・どんなめっきも可能

微粒子へのめっき 独自開発

ナノ~ミクロンサイズのカーボン系・樹脂系および金属系微粒子の1粒1粒にめっきを施し新機能材料の開発などに貢献する技術です。

特徴:
・カーボン系、樹脂系など様々な材料に対応可能
・ナノサイズの粒形まで対応可能
・どんなめっきも可能

グラファイトへのめっき 産・学・官 連携開発

経済産業省より「サポートインダストリー」認定を受けた開発。特殊な手法で、900℃の耐熱環境下においても、高いめっき密着性の確保が可能に。

特徴:
・高密着性
・高耐熱性
・どんなめっきも可能


特殊機能のめっき

これまでになかった表面特性を持っためっき皮膜の技術開発。

竹銀めっき(バンブーシルバー) 独自開発

青竹のような"硬さ"と"しなやかさ"を備えたオリジナル銀めっき。バッチ式とフープ式で生産可能。

特徴:
・高折り曲げ密着性
・高硬質性(低経時劣化性)
・高生産性(フープめっき可) ・部分めっき可

ポーラスニッケルめっき 独自開発

"析出"を制御することにより、表面積が大きくなる多孔性(ポーラス状)表面形態を実現。表面粗さと比表面積が大幅に向上したニッケルめっきです。

特徴:
・表面粗さの向上
・比表面積の増大
・高い表面円滑性


精密部分金めっき

金や銀など高価な貴金属めっきの省資源化と低コスト化につながる技術開発。

スポットめっき 独自開発

必要な部位にだけ貴金属めっきを施す技術。不要な部位の貴金属を省くことで製造コストを下げるとともに、省資源化に貢献する技術です。

特徴:
・必要な部位だけめっき可能
・高いエリア精度(寸法誤差0.25mm以下)
・貴金属の省資源化(当社比1/10)
・成型品も対応可能

ニッケルバリアめっき 独自開発

ストライプ状に高いエリア精度で金およびニッケルめっき加工を施す技術。複雑な形状のものにもニッケルバリア形成が可能に。

特徴:
・ストライプめっき
・高いエリア精度(Ni幅0.5±0.2mm)
・端面までめっき加工可能
・成型品も対応可能